【半導体業界ニュース】2025年7月のニュースを厳選してご紹介！

2025年7月3日

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2025年7月に半導体業界で生じたニュースを厳選してご紹介します。

動画で説明：半導体業界ニュース2025年7月号

7月末公開予定

7月末公開予定

Patentixは6/30、次世代のパワー半導体材料のひとつとして期待されているルチル型二酸化ゲルマニウム(r-GeO2)バルク結晶の合成に成功したと発表しました。

同社が合成に成功したr-GeO2は、バンドギャップが4.68eVでありSiCの3.3eVやGaNの3.4eVよりもさらに広く、パワー半導体として活用すれば高い省エネ効果が期待されています。

今回およそ15mmのr-GeO2バルク合成に成功し、X線回折法による構造評価でほとんどのピークがr-GeO2に由来していることが確認されました。

今後はr-GeO2のバルク結晶の開発をさらに加速させ、今回合成に成功したr-GeO2のバルク結晶を種結晶として大口径化、高品質化し、市場投入を目指して開発に取り組むとしています。

SiCやGaNの実用化が進む中、その先の将来に使われる可能性を秘めた材料開発が進んでいるようです。まだまだこれからたくさんの課題があるとは思いますが、期待をしていきたいですね。

SCREENは7/1、半導体洗浄装置の累計出荷台数が15,000台を突破したと発表しました。

同社は1975年に半導体製造装置事業に参入し、50年間にわたって装置の供給をし続けています。その中でも洗浄装置は主力製品であり、枚葉式洗浄、バッチ式洗浄、スピンスクラバという半導体洗浄の各カテゴリにおいて世界シェアNo.1を獲得しています。

今後も半導体洗浄装置のリーディングカンパニーとして、技術革新と製品開発によって半導体デバイス製造を支えるとしています。

洗浄装置はどんな半導体製造でも必要ですし、工程数も多くなります。それにしても50年かけて15,000台とは途方もない年月と台数ですね。

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